碳化硅超細(xì)粉去除殘渣的方法

    碳化硅超細(xì)粉是通過加熱含有硅源、碳源和催化劑的混合物來制造的。在制備過程中，不可避免地會有殘留物，那么去除他們的方法有哪些？
    1.通過酸處理。
    清洗碳化硅超細(xì)粉中的殘留物時，應(yīng)注意酸處理，這可以非常方便地清洗殘留物。而且操作步驟相對簡單，使其與碳化硅超細(xì)粉的鐵發(fā)生一定程度的反應(yīng)，從而直接去除殘渣，解決產(chǎn)品中的殘渣問題。
    2.通過堿處理。
    另一種值得企業(yè)用戶理解的方式是用堿處理殘渣，這樣在處理碳化硅超細(xì)粉中的殘渣時，燒堿溶液可以直接和這種產(chǎn)品勾兌，這樣可以直接去除表面一些散落的硅，在清洗的同時直接改善殘渣中的成分。
    碳化硅超細(xì)粉的硅含量決定了碳化硅的硬度碳化硅的粒度對線切割的影響很大，但重要的是碳化硅的顆粒形狀由于線切割時碳化硅是隨意的，切割顆粒的形狀變化對切割效率和切割質(zhì)量有重要影響。

    

     通過這些描述，碳化硅超細(xì)粉去除殘渣的方法大家也了解了，用于3-12英寸單晶硅、多晶硅和應(yīng)時晶體的線切割。希望以上內(nèi)容對你有幫助。

小編：Nancy